Автоматизация процессов проектирования РЭУ 05.05.2017

Компания Нанософт совместно с лидерами в разработке САПР, компаниями Mentor Graphics и Siemens PLM Software, приглашает принять участие в семинарах в Санкт-Петербурге (23 мая) и Москве (24 мая) «Автоматизация процессов проектирования РЭУ. Концепция единой платформы проектирования ECAD-MCAD-PLM на базе программных решений Mentor Graphics и Siemens PLM Software».

Мир стоит на пороге четвёртой промышленной революции (Индустрия 4.0). Важными составляющими её успеха станут автоматизация физических операций, ускорение процессов проектирования и соответствие современным требованиям.

Технологии проектирования электроники меняются с космической скоростью. Сегодня многие радиоэлектронные устройства (РЭУ) уже включают в себя высокоскоростные интерфейсы HDMI, DDR3, DDR4, USB 3.0, PCI Express. Индустрия 4.0 будет способствовать развитию таких направлений, как Интернет вещей и Киберфизические системы. В свою очередь, это предъявит новые требования к РЭУ и станет новым вызовом для их разработчиков.

Успешно выполнять постоянно усложняющиеся задачи помогут интегрированные между собой профессиональные программные решения.

Семинары интересны тем, что рассмотрят концепцию единой платформы проектирования ECAD-MCAD-PLM на базе программных решений Mentor Graphics и Siemens PLM Software.

Мероприятие будет интересно разработчикам РЭУ и ИТ-директорам, перед которыми стоит задача по автоматизации и управлению жизненным циклом изделия.

В рамках семинара выступят представители Mentor Graphics и Нанософт.

Участие в семинаре бесплатное. Предварительная регистрация обязательна.

www.nanocad.ru :"Arial","sans-serif"; mso-fareast-font-family:Calibri;mso-fareast-theme-font:minor-latin;mso-bidi-font-family: "Times New Roman";mso-bidi-theme-font:minor-bidi;mso-ansi-language:RU; mso-fareast-language:EN-US;mso-bidi-language:AR-SA'> и Siemens PLM Software».