ОАО «НИИМЭ и Микрон», один из крупнейших производителей и экспортёров микросхем и RFID-продукции в Восточной Европе и СНГ, входящий в отраслевой холдинг ОАО «РТИ», завершил разработку собственной технологии создания интегральных схем по топологии 65 нм и планирует в 2014 году начать их серийное производство на своём заводе в Зеленограде.
Разработка 65-нм технологии, занявшая около двух лет, успешно завершилась в декабре 2013 года: были получены первые работающие тестовые кристаллы. Исследования показали, что транзисторы в новых кристаллах работают в 1,5 раза быстрее, чем выполненные по уже освоенной в производстве 90-нм технологии, при одновременном снижении потребляемой энергии более чем в 2 раза.
В технологическом процессе использовалась ультрафиолетовая фотолитография с длиной волны излучений 193 нм, которая применяется для серийного производства 90-нм чипов. Для получения транзисторов по топологии 65 нм специалистами «Микрона» были разработаны специальные алгоритмы внесения оптической коррекции фотолитографии, проведена оптимизация плазмохимических процессов, химико-механической обработки, ионной имплантации, операций термического окисления, а также разработаны модели работы транзисторов и других элементов. После завершения разработки правил проектирования (PDK) и описания экспериментальных моделей работы всех элементов, предназначенных для оптимизации процесса проектирования, они будут переданы российским дизайн-центрам.
Процесс производства по технологии 65-нм совместим с основной инфраструктурой и оборудованием существующей линии по производству интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм. Завершив в апреле 2014 года установку дополнительного технологического и контрольно-измерительного оборудования и проведя сертификацию 65-нм процесса, «Микрон» сможет приступить к серийному производству микросхем по принципиально новым для России технологиям.
«В рамках нашей технологии разработчикам будут доступны три типа транзисторов ядра с различным соотношением производительности и энергопотребления, что даст им широкие возможности и гибкость в проектировании интегральных схем, – отметил заместитель генерального директора ОАО «НИИМЭ и Микрон» по научной работе Николай Шелепин. – С открытием серийного производства на «Микроне» наши дизайн-центры, разрабатывающие элементную базу по топологии 65 нм, смогут перенести её производство из стран ЮВА на территорию России».
Первое изделие по 65-нм технологии планируется запустить в производство уже в апреле 2014 года. Это будет универсальная память ОЗУ ёмкостью 16 Мб (100 млн транзисторов), используемая в различных вычислительных системах. В дальнейшем планируется освоить в серийном производстве другие логические и аналогово-цифровые полупроводниковые приборы, в том числе с встроенной памятью: процессоры и микропроцессоры, ЦАП/АЦП, программируемая матричная логика и др.
Комментарии