Холдинговая компания «Российская электроника» («Росэлектроника») объявила о создании межотраслевого Центра проектирования, каталогизации и производства фотошаблонов (ЦФШ) для изготовления интегральных схем (ИС) с проектными нормами до 180 нм. Проект реализуется в рамках ФЦП «Развитие электронной компонентной базы и радиоэлектроники» на 2008–2015 гг.Холдинговая компания «Российская электроника» («Росэлектроника») объявила о создании межотраслевого Центра проектирования, каталогизации и производства фотошаблонов (ЦФШ) для изготовления интегральных схем (ИС) с проектными нормами до 180 нм. Проект реализуется в рамках ФЦП «Развитие электронной компонентной базы и радиоэлектроники» на 2008–2015 гг.
Инициатором проекта является «Росэлектроника», цель которой – объединение усилий заинтересованных в проекте отечественных и зарубежных игроков электронного рынка России. Среди партнёров: Московский государственный институт электронной техники (МИЭТ), ЗИТЦ, Cadence, Compugraphics, Synopsys, Leica и Zeiss. В то же время ЦФШ призван обеспечить информационную защищённость разработанных в дизайн-центрах электронных изделий и уменьшить зависимость отечественных наукоёмких предприятий от зарубежных поставщиков при изготовлении стандартных бинарных фотошаблонов для производства ИС с проектными нормами до 180 нм.
Заказчиками продукции Центра выступают «НИИМЭ и Микрон», «Ангстрем», предприятия, входящие в состав холдинга «Российская электроника», и организации, основным направлением деятельности которых является разработка и производство микроэлектронной и специализированной техники: НИИСИ РАН, ФГУП НПП «Пульсар», ФГУП «НПП ”Исток”», «НПП Радар ммс» и др.
Сверхбольшие интегральные схемы (СБИС), системы на кристалле (СНК) и микросистемы (МСТ) являются основой для создания информационно-коммуникационных систем, а также систем автоматического управления. Для их изготовления требуются фотошаблоны, с помощью которых формируется топологический рисунок отдельных элементов и их взаимного расположения. Фотошаблоны являются материальным носителем конструктивно-технологической информации, которая представляет собой интеллектуальную собственность разработчика изделия и подлежит патентованию.
По данным «Росэлектроники», сегодня большинство отечественных разработчиков СБИС, СНК и МСТ заказывают изготовление этих изделий, а, следовательно, и фотошаблонов на иностранных контрактных производствах, в том числе и при выполнении государственного оборонного заказа. При этом существует угроза несанкционированного копирования фотошаблонов, что нарушает авторские права разработчиков и обесценивает интеллектуальный отечественный продукт. ЦФШ позволяет разработчикам заказывать собственные фотошаблоны без обращения к иностранному производителю, а также предоставляет услуги по обеспечению информационной безопасности при работе с иностранными контрактными производствами.
Базовый комплект оборудования ЦФШ включает: электронно-лучевой генератор изображения Vistec SB350B; лазерный генератор изображения ЭМ-5189; комплекс физико-химической обработки HMP-90; станцию измерения CD размеров Leica LWM 250 UV; а также пять установок – контроля топологии и поиска дефектов ЭМ-6029Б, финишной отмывки ASC 5500, монтажа пелликлов MLI 8002, лазерного устранения дефектов ЭМ-5001Б, контроля совмещения IPRO.
При проектировании топологии фотошаблонов применяется ПО зарубежных вендоров: Cadence Mask Compose (создание рамок и меток совмещения под конкретное оборудование изготовителя ИС); Mentor Graphics Calibre (моделирование и верификация); Synopsys CATS (подготовка управляющей информации).
ЦФШ не останавливается на достигнутом: представлены опытные образцы бинарных фотошаблонов по 90 нм технологии. Но здесь пока существуют нерешённые проблемы: часть (из комплекта) таких фотошаблонов заказчикам придётся делать за рубежом.
Комментарии