Intel откладывает покупку EUV-сканера

Согласно имеющейся информации, корпорация Intel отказалась от закупки тестового (alpha tool) сканера для EUV-литографии (литография с использованием жёсткого ультрафиолетового излучения, вакуумная литография) у японской корпорации Nikon. Как сообщает источник из среды производителей полупроводникового оборудования, Nikon намеревалась предоставить Intel тестовый образец EUV-сканера до конца прошлого года, однако не смогла уложиться в срок. В конце концов, по данным источника, обе компании договорились о продолжении исследований в токийской лаборатории, поскольку «доставка оборудования заняла бы слишком много времени».

В любом случае данное событие является ещё одним подтверждением глубокого «кризиса идеи», постигшего EUV-литографию. Первоначально технология была предназначена для производства микросхем по 45-нм проектным нормам, сейчас сроки её внедрения отодвинуты как минимум до 2011 г. к моменту старта 22-нм производства. Часть отраслевых экспертов и вовсе полагают, что технологии не суждено дойти до коммерческого применения, хотя бы ввиду высокой стоимости оборудования. Так, по расчётам аналитиков, цена только одного сканера в будущем может составить от 60 до 100 млн. долл. США.

Однако в стане оппонентов вакуумной литографии дела обстоят ничуть не лучше. Конкурирующие методики, такие как иммерсионная оптическая литография с двойным экспонированием (immersion lithography with double patterning), наноимпринт-литография (nano-imprint lithography) или электроннолучевая литография множественным пучком (multi-beam e-beam lithography), являются скорее раздражителями, а не настоящей альтернативой, поскольку находятся на ещё большем расстоянии от коммерческого воплощения, чем EUV-литография.

Напомним, что главными проводниками EUV-литографии являются корпорация Intel, два крупнейших производителя флэш-памяти Samsung и Toshiba, а также целая группа производителей чипов оперативной памяти, объединённых под одним знаменем бельгийским исследовательским центром IMEC. Производством оборудования для EUV-литографии, кроме Nikon, занята ещё и голландская ASML, уже успевшая отгрузить два сканера: американской лаборатории Albany Nanotech и вышеупомянутой IMEC.

eetimes.com

На данном сайте используются cookie для сбора информации технического характера и обрабатывается Ваш IP-адрес. Продолжая использовать этот сайт, вы даете согласие на использование файлов cookies.